吡喹酮混懸液研磨分散機運行原理：
混懸液研磨分散機在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入混懸液破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。

產品型號：GMD2000/4

更新時間：2025-07-29

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管線式乳化機與傳統(tǒng)乳化機的比較

產品介紹

吡喹酮混懸液研磨分散機，藥物懸液研磨分散機，管線式研磨分散機，超高速研磨分散機，高剪切醫(yī)藥級研磨分散機，三級納米研磨分散機，SGN研磨分散機

本發(fā)明公開了一種含伊維菌素和吡喹酮的獸用復方混懸注射液及其制備方法。本發(fā)明獸用復方混懸注射液的有效成分為伊維菌素和吡喹酮。其制備方法包括以下步驟：1)取助懸劑、抗氧化劑和防腐劑溶于或分散于3-20％的熱分散媒中，得到A液；2）取配方量30-90％的分散媒倒入膠體磨中，啟動膠體磨，然后緩緩加入上述A液，待全部加入*，邊攪拌邊加入潤濕劑；3）待全部輔料加入*，依次加入伊維菌素和吡喹酮，然后采用循環(huán)研磨和非循環(huán)研磨相交替的方式進行研磨；4）檢查顆粒細度，符合要求后停止研磨，加分散媒至配方量，混勻，灌裝，密封，滅菌，得到本發(fā)明含有伊維菌素和吡喹酮的獸用復方混懸注射液。本發(fā)明主要用于防治家畜吸蟲、絳蟲、線蟲和體外寄生蟲引起的混合感染。

GMD2000系列吡喹酮混懸液研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑微米級0.2-2μm，可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質混合?；鞈乙悍稚⑷榛瘷C由定/轉子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質轉移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

吡喹酮混懸液研磨分散機運行原理：
混懸液研磨分散機在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入混懸液破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎。精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。

研磨分散機選型表

型號	標準流量 L/H	輸出轉速 rpm	標準線速度 m/s	馬達功率 KW	進口尺寸	出口尺寸
GMD2000/4	300-1，000	9，000	23	2.2	DN25	DN15
GMD2000/5	3，000	6，000	23	7.5	DN40	DN32
GMD2000/10	8，000	4，200	23	15	DN50	DN50
GMD2000/20	20，000	3，000	23	37	DN80	DN65
GMD2000/30	40，000	1，500	23	55	DN150	DN125
GMD2000/40	70，000	1，500	23	90	DN150	DN125